Place of Origin:
Anhui, China
브랜드 이름:
Wayeal
인증:
CE
모델 번호:
IC6200
IC6200 이온 염색체 기기의 기술 데이터
| 제품 이름 | IC6200 이온 염색기 기기 |
| 시스템 매개 변수 | |
| 질적 반복성 | ≤0.5% |
| 양적 반복성 | ≤1.0% |
| 펌프 시스템 | |
| 펌프 재료 | PEEK |
| 펌프 흐름 속도 | (0.001~10.000) mL/min |
| 펌프 헤드 압력 저항 | (0 ~ 35) MPa |
| 흐름 속도 설정의 부정확성 | <0.1% |
| 흐름 안정성 | <0.1% |
| 압력 표시 정확도 | 0.01Mpa |
| 압력 펄스 | <0.5% |
| 전도성 감지기 | |
| 기준 소음 | ≤0.1%FS |
| 기준 변동 | ≤0.5%FS |
| 최소 검출 가능한 농도 (Cl) | ≤ 0.0002ug/mL |
| 최소 검출 농도 (Li) | ≤ 0.0001ug/mL |
| 전도성 셀 부피 | ≤ 0.6μL |
| 전도성 탐지 범위 | 0~15000μS/cm |
| 검출기 해상도 | 00.00238nS/cm |
| 전도성 셀 온도 설정 오류 | ±0.01°C |
| 억제기 | |
| 일정한 전류 소스 범위 | 0~500mA 0.1mA 증가 |
| 기둥 오븐 | |
| 온도 범위 | 방온: +5°C~85°C |
| 제어 온도 안정성 | ≤ 0.1°C |
| 오토 샘플러 | |
| 주사용 비트 | 48/120 |
| 냉각 온도 범위 | 4~30°C |
| 반복 가능성 |
전체 루프 주입 < 0.3% RSD, 부분 주입 < 0. 5% RSD 파괴적이지 않은 주입 < 1% RSD (주입 부피 > 5uL) |
| 선형성 | >0.999 |
| 교차 오염 | < 0.01% |
| 엘루엔트 발전기 | |
| 흐름 속도 범위 | 00.001~3.000mL/min |
| 소프트웨어 | 자체 개발된 스마트랩 |
IC6200 이온 염색기 기기의 주요 장점
정밀 PEEK 물질 이온 염색체 펌프
완전히 PEEK 펌프 헤드, 산, 알칼리 및 역 단계 유기 용매에 저항, 금속 오염을 피합니다.
펌프 헤드와 드라이브 시스템은 모두 서스펜션 기술을 사용하며 밀폐의 수명을 크게 연장하고 사용 및 유지 보수 비용을 줄입니다.
전자 펄스 억제 기술과 함께 탕덤 듀얼 플러거 모드는 높은 정밀도, 낮은 펄스, 낮은 드리프트 엘루언트를 제공합니다.
고전압 및 저전압 보호 기능으로 분석 및 감지 시스템을 즉시 보호합니다.
모든 플라스틱 비금속 흐름 경로
모든 픽 펌프.
PEEK 엔진 주입 밸브
류류 저장 탱크, 액체 파이프 및 관절은 PEEK, PTFE 및 PP와 같은 산성 및 알칼리 부식 저항성 소재로 만들어집니다.
고압과 저압의 유체 파이프로 구성되어 있습니다. 식별하기 쉽습니다.
이온 염색체 기기의 응용화학 및 석유화학 산업
1환경 준수
이온 크로마토그래프는 환경 규정을 준수하고 화학 및 석유 화학 작업의 환경 영향을 최소화하기 위해 필수적입니다.
폐수 분석:이온 염색기 는 하수 에서 질산, 인산, 중금속 등 유해 이온 을 관찰 하기 위해 사용 되며, 배출 한계 를 준수 하는 것 을 보장 한다.
공기 배출량:이온 염색기 는 대기 중 입자와 수 sulfate 및 nitrate 와 같은 기체를 분석하여 산업 배출물질의 대기 질에 미치는 영향을 평가할 수 있습니다.
토양 및 지하수 모니터링: 이온 염색기 는 토양 과 지하수 에 있는 이온 오염물질 을 탐지 하는 데 도움 이 되며, 오염 된 부위 를 평가 하고 복구 할 수 있게 한다.
2촉매 및 연료 분석
석유화학 산업에서 이온 염색체는 최적의 성능과 규격 준수를 보장하기 위해 촉매 및 연료를 분석하는 데 사용됩니다.
촉매 분석: 이온 염색기술은 촉매의 활성 성분과 불순물의 농도를 측정할 수 있으며, 이는 그들의 활동과 선택성에 영향을 줄 수 있습니다.
연료 분석: 이온 염색체는 연료의 염화물 및 황화수소와 같은 이온 오염 물질을 탐지하는 데 사용됩니다. 이는 엔진과 연료 시스템에서 부식 및 매진을 유발할 수 있습니다.
첨가 분석:이온 염색기 는 세정제 와 안정제 와 같은 연료 첨가물 을 정량화 할 수 있으며, 그 들 이 요구 된 수준 에 존재 함 을 보장 한다.
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