2024-09-18
원자 흡수 분광 광대 측정기로 토양 내의 중금속의 결정
1실험 방법
키워드: 원자 흡수 스펙트럼 포토미터, 자동 샘플러, 그래피트 오븐, 불꽃, 흙, 중금속
1.1 기기 구성
표 1 AAS 구성 목록
|
아니 |
모듈 |
Qty |
|
1 |
원자 흡수 분광광기 AA2310 |
1 |
|
2 |
그래피트 오븐 전력 GF2310 |
1 |
|
3 |
오토 샘플러 AS2310 |
1 |
|
4 |
냉각 순환기 |
1 |
|
5 |
고순도 아르곤 |
1 |
|
6 |
그래피트 튜브 |
1 |
|
7 |
기름 없는 공기 압축기 |
1 |
|
8 |
고순도 아세틸렌 |
1 |
1.2 반응제 및 실험물질
질소산 용액 (1+99): 10mL의 질소산을 측정하고 천천히 990mL의 물에 넣고 잘 섞습니다.
Pb 표준 용액:1000mg/L
Cd 표준 용액: 1000mg/L
Ni 표준 용액: 1000mg/L
1% 다이아모늄 수소 인산화물: 100mL 용량 콜러에 다이아모늄 수소 인산화물 1g를 가져와 초순수로 부피를 고정합니다.
질산: GR
염화수산: GR
염화수산: GR
페르클로리산: GR
10천개의 분석 평형 중 하나
전기 열 열 열조각
디지털 디스플레이 전기 열판
테플론 크라이블
1.3 표본 전처리
표본 소화: 0.2g의 표본을 PTFE 크라이블에 무게를 두고, 습화하기 위해 1~2방울의 물을 첨가하고, 10ml의 염수산, 9ml의 질소산, 4ml의 수소산,그리고 2ml의 페르클로릭산, 잘 흔들고, 덮고 6 시간 동안 150 ° C에서 뜨거운 판에 가열하고, 뚜?? 을 열고 실리콘 외에도 계속 가열합니다.그것은 자주 크라이블을 흔들고 함유물이 점성이 될 때까지 증기 산을 구동해야합니다.제거하고 약간 냉각, 용해성 잔해를 해소하기 위해 0.5ml의 질산을 첨가, 물로 크라이블 뚜?? 과 내부 벽을 씻어, 전체 양을 50ml의 볼로에 옮기기그리고 순수한 물로 부피를 정렬합니다., 잘 흔들고 테스트를 위해 PTFE 반응기 병에 보관합니다. 샘플을 물로 교체하고 위의 단계를 따라 전체 프로그램 빈 용액을 준비하십시오. 측정됩니다.
2결론과 논의
2.1 납의 스펙트럼 조건
|
가열 방법 |
그래피트 오븐 |
||
|
시험 방법 |
최고 높이 |
||
|
주입 부피 |
20μL 샘플 + 5μL 다이아모늄 수소 인산화 |
||
|
대역폭 |
0.4nm |
파장 |
283.3nm |
|
발화 |
AA-BG |
램프 전류 |
5mA |
|
표준 곡선 농도 표 (μg/L) |
|||||
|
표준 곡선 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
|
누출 표준 용액 |
5.00 |
10.0 |
20.0 |
30.0 |
40.0 |
표준 곡선 테스트
표준 곡선의 선형성
2.3 카드미움의 스펙트럼 조건
|
가열 방법 |
그래피트 오븐 |
||
|
시험 방법 |
최고 높이 |
||
|
주입 부피 |
15μL 샘플 + 5μL 1% 다이아모늄 수소폭산 |
||
|
대역폭 |
0.4nm |
파장 |
2280.8nm |
|
발화 |
AA-BG |
램프 전류 |
4mA |
|
표준 곡선 농도 표 (μg/L) |
||||
|
표준 곡선 |
1 |
2 |
3 |
4 |
|
Cd 표준 솔루션 |
0.5 |
1.5 |
2.0 |
2.5 |
표준 곡선 테스트
표준 곡선의 선형성
2.4 니켈의 스펙트럼 조건
|
가열 방법 |
불꽃 |
||
|
타워 높이 |
10mm |
||
|
아세틸렌 흐름 속도 |
20.0L/min |
||
|
대역폭 |
0.2nm |
파장 |
232.0nm |
|
발화 |
AA |
램프 전류 |
4mA |
|
표준 곡선 농도 표 (μg/mL) |
|||||
|
표준 곡선 |
1 |
2 |
3 |
4 |
5 |
|
Ni 표준 곡선 |
0.5 |
1.0 |
1.5 |
2.0 |
2.5 |
표준 곡선 테스트
표준 곡선의 선형성
3결과 계산
|
표본 |
아니 |
표본 부피 (g) |
시험 농도 |
함유량 ((mg/kg) |
이론적 농도 (mg/kg) |
표준편차 |
|
Pb |
1# |
0.2005 |
16.2420μg/L |
21 |
21±2 |
자격 |
|
1#- 평행 |
0.2009 |
170.6490μg/L |
||||
|
Cd |
1# |
0.2005 |
00.4897μg/L |
0.12 |
00.14±0.02 |
자격 |
|
1#- 평행 |
0.2009 |
0.4991μg/L |
||||
|
니 |
1# |
0.2005 |
0.1180μg/L |
29 |
30±2 |
자격 |
|
1#- 평행 |
0.2009 |
0.1159μg/L |
4참고
실험에 사용 된 염화산과 질소산은 강한 산화 및 부식 성질을 가지고 있으며, 염화산과 염화산은 강한 휘발성 및 부식성을 가지고 있습니다.따라서 반응 물질의 준비와 샘플 소화 작업은 증기 모터에서 수행되어야 합니다.■ 수술 중에 호흡기에 흡입되거나 피부와 옷과의 접촉을 피하기 위해 필요한 보호 장비를 착용해야합니다.
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